Le laboratoire d'intelligence artificielle de Shanghai, en collaboration avec plusieurs partenaires universitaires, a annoncé le développement d'une résine photorésist KrF (fluorure de krypton) de haute pureté à l'aide d'une plateforme de synthèse pilotée par l'IA. Cette réalisation a été rapportée le 13 mai 2026, selon un communiqué de presse du laboratoire.
La plateforme d'IA a optimisé le processus de synthèse, produisant une résine avec une grande constance de lot, un facteur critique pour la fabrication de semi-conducteurs. Le laboratoire a déclaré que la résine répond aux normes industrielles de pureté et de performance, bien que des mesures spécifiques n'aient pas été divulguées dans l'annonce initiale.
Cette percée est significative pour la chaîne d'approvisionnement des semi-conducteurs en Chine, car les résines photorésist sont un matériau clé dans la production de puces et ont été soumises à des contrôles à l'exportation. Ce développement pourrait réduire la dépendance vis-à-vis des fournisseurs étrangers pour ce produit chimique spécialisé.
L'équipe de recherche prévoit d'augmenter la production et de collaborer avec des fabricants de puces nationaux pour des tests supplémentaires. Aucun calendrier de disponibilité commerciale n'a été fourni.
